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迈向更高层次的重要里程碑接着，日本人集团总经理郑武详细介绍了集团概况和昌图工厂的建设情况，强调了制造实力和产能的重要性年轻（d）二元合金体系中不同有序状态下的构型熵。然而，不买由于高熵合金成分的复杂性，其成分原子之间的化学相互作用、原子尺寸差异和弹性模量差异往往会造成原子之间的短程有序分布。

最近的研究结果表明，日本人化学短程有序广泛存在于高熵合金体系之中，并且对高熵合金的力学性能和结构稳定性具有重要影响。年轻（d）理论预测的构型熵与模拟结果的对比。

然而，不买关于高熵合金中的化学短程序的来源和演化规律这一根本问题仍然没有得到很好的理解。

通过与相关模拟结果比较，日本人该理论模型能够预测不同固溶体合金体系中的构型熵随温度的变化规律，对理解固溶体合金体系的相稳定具有重要意义。【成果简介】近日，年轻美国阿拉巴马大学闫风教授，年轻美国托莱多大学鄢炎发教授（共同通讯作者）、李登兵博士（第一作者）等人报道了一种新的高效非原位掺杂技术，即使用一系列V族高离子性材料（即V族氯化物（VCl3），如PCl3、AsCl3、SbCl3和BiCl3）作为掺杂前驱体，在低温条件下实现了有效的非原位V族元素掺杂。

XRD和Raman结果表明，不买该方法不仅可以使碲化镉表面形成富碲的碲化镉薄层，还能有效去除在CdCl2处理过程中产生的氧化镉等杂质，可以有效改善背接触。即利用CuCl在乙醇中的极低溶解度，日本人配置CuCl的饱和乙醇溶液作为掺杂前驱体，进而为在极低水平下控制Cu的掺杂剂量提供了可能。

通过使用剂量和快速退火工艺的协同优化，年轻最终在使用0.19Å（远低于传统的3-4nm）的等价厚度Cu的条件下，获得了17.5%的光电转换效率。而相对于原位掺杂技术，不买非原位掺杂更具优势：CdCl2处理使得CdTe具有更多的Te空位，更有利于V族元素的扩散，进而形成VTe受主掺杂。